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专利名称：一种光刻胶及光刻胶图案的制作方法专利类型：发明专利
发明人：刘明,左岳平,孟秋华,王纯阳,方飞申请号：CN201811351459.0申请日：20181114公开号：CN109270791A公开日：20190125
摘要：本发明实施例提供一种光刻胶及光刻胶图案的制作方法，涉及光刻胶技术领域，能够解决相关技术中由于光刻胶顶部与底部接受光照量不同而造成的光刻胶坡度角较小，进而造成Mask CD与FICD之间存在较大误差的问题。所述光刻胶包括多个感光单元，每个感光单元均具有磁性。本发明用于光刻胶图案的制作。
申请人：京东方科技集团股份有限公司
地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
国籍：CN
代理机构：北京中博世达专利商标代理有限公司
代理人：申健
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