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专利名称：一种光栅制作装置专利类型：实用新型专利发明人：吴继清,黎浩,许海明申请号：CN201820195158.2申请日：20180205公开号：CN207541290U公开日：20180626
摘要：本实用新型属于半导体技术领域，具体涉及一种光栅制作装置，包括旋转台、用于遮挡光线的遮光板、用于固定晶圆的吸盘、用于水平移动晶圆和竖直移动晶圆的两轴调节机构；所述遮光板和所述两轴调节机构均固定于所述旋转台上，所述吸盘固定于所述两轴调节机构上；所述遮光板上设有透光孔，两束激光通过透光孔在晶圆上形成干涉，进行全息曝光、显影，制成光栅。本实用新型提供的光栅制作装置采用分区域全息曝光，解决了普通全息曝光光强分布不均匀导致的光栅良率低问题。
申请人：湖北光安伦科技有限公司
地址：436000 湖北省鄂州市葛店开发区高新三路光谷联合科技城第C9栋5单元
国籍：CN
代理机构：北京汇泽知识产权代理有限公司
代理人：胡建文
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